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スタートアップ企業

主要応用分野
Hardware
製品・サービス概要
CMOSプロセスに基づくシリコンフォトニクス・センサーチップ設計
上記の内容はAiによって翻訳されました。
設立年
2019
会社番号
82847906
企業ステータス
事業継続中
チームの規模
0
実払資本金
292,727,326 (元/新台湾ドル)
登録住所
台湾 , 台北市
企業名、企業の登記状況、代表者、設立年、払込資本金、登記住所等の情報は、台湾経済部商業発展署の商工登記情報に基づいています。エグジット状況には、興櫃市場への登録、M&AおよびIPOが含まれます。海外展開に関する情報は、スタートアップ企業が自ら提供したものです。 注1: 本プラットフォームは、公開情報の収集等を通じて企業情報を取りまとめ、ウェブサイト上で一般に公開し、各方面からの照会に供しています。本プラットフォームは、掲載企業の問い合わせ窓口ではありません。 注2: 本プラットフォームに掲載されている企業概要および製品・サービスの説明の一部には、AIによる翻訳を使用しています。翻訳内容は参考情報としてご利用ください。原文との間に意味の相違や疑義が生じた場合は、原文を優先してください。
会社概要
台灣奈微光科技(Taiwan Nano&Mirco-Photonics Co.,Ltd、略称:N&M)は、政府がシリコンフォトニクス分野に長年投じてきた成果を集結させた、世界初のCMOSプロセスに基づくセンシングIOC設計企業です。コアとなるシリコンフォトニクス技術は主に国立台湾大学に由来しており、光電融合技術を利用してシリコンフォトニクスの応用を実現しています。独自の知的財産(IP)特許を通じて、世界最先端のシリコンフォトニクス光源および検出チップを開発し、シリコンフォトニクスの理論的な研究開発と応用を具現化するとともに、シリコンフォトニクスチップに関連するモジュール設計ソリューションを提供しています。

過去から現在に至るまでの中赤外光開発技術は、主に化合物半導体材料を用いることで、初めて中赤外光を放射する特性を実現していました。しかし、化合物半導体はデバイス製造において、エピタキシャル成長やプロセス技術のコストが非常に高価であるという課題を抱えています。台灣奈微光科技(N&M)は、独自のシリコンベース設計に基づき、台湾の完備されたシリコン半導体製造サプライチェーンのもと、既存のCMOSプロセスを通じて光電融合技術によるシリコンフォトニクスの応用原理を実現し、「シリコンベース中赤外光光源・検出チップ」を開発しています。


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