当社の創業メンバーは全員が化学の専門的なバックグラウンドを持ち、半導体業界において10年以上の実務経験を有しております。半導体製造プロセスにおいて使用される毒性ガスが増加し、環境や人体に及ぼす潜在的な危険性を痛感したことから、当社は従来の処理方法とは異なる新技術の開発に注力してまいりました。全く新しいコンセプトに基づき、高効率、省エネ、低コストの排気ガス処理システムを設計し、現在までに国内で多数の特許を取得しております。

微小粒子状物質（PM2.5）による汚染に対しては、日本企業と共同で新型の防止設備を開発し、2018年には国内の大手ウェーハ製造メーカーからの認証を取得いたしました。その除去効率は、他の技術を大きく上回っています。さらに、当社は全く新しいコンセプトによるNOx、VOC、PFCなどの排気ガス処理への応用技術の開発も進めております。