主要応用分野
Manufacturing
製品・サービス概要
1. 低温エピタキシー技術：物理スパッタリング（一般に真空スパッタリングと呼ばれる）を採用しています。これは、電界を利用して動作ガスを電離させてプラズマを発生させ、ターゲット材への衝突を加速させることで、ターゲット上の材料を基板上にスパッタリング（堆積）させる技術です。適切な技術と装置を用いることで、良好な薄膜化学反応を促し、高品質なエピタキシャル薄膜を形成することができます。
2. 自己補償膜厚技術：スパッタリングエピタキシー技術は、プラズマがターゲット材に衝突した際に生じるスパッタリング効果により、材料が放出される角度がほぼ一定となります。そのため、適切なワーキングディスタンス、ターゲットと基板の相対位置、基板の回転などのパラメータを設定することにより、8〜12インチのウェーハサイズにおいて均一な薄膜厚さを得ることができ、ウェーハの中心部と外周部の膜厚誤差は1%となっています。
2. 自己補償膜厚技術：スパッタリングエピタキシー技術は、プラズマがターゲット材に衝突した際に生じるスパッタリング効果により、材料が放出される角度がほぼ一定となります。そのため、適切なワーキングディスタンス、ターゲットと基板の相対位置、基板の回転などのパラメータを設定することにより、8〜12インチのウェーハサイズにおいて均一な薄膜厚さを得ることができ、ウェーハの中心部と外周部の膜厚誤差は1%となっています。
上記の内容はAiによって翻訳されました。
設立年
2017
会社番号
69727061
企業ステータス
事業継続中
チームの規模
0
実払資本金
5,000,000 (元/新台湾ドル)
登録住所
台湾
, 新竹市
ウェブサイトリンク
企業名、企業の登記状況、代表者、設立年、払込資本金、登記住所等の情報は、台湾経済部商業発展署の商工登記情報に基づいています。エグジット状況には、興櫃市場への登録、M&AおよびIPOが含まれます。海外展開に関する情報は、スタートアップ企業が自ら提供したものです。
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会社概要
進化光學有限公司(Microluce, LTD)は2017年10月に設立されました。科技部の「萌芽計画」の支援を受けて設立された当社は、大学内の先端技術を産業界へと技術移転しています。技術メンバーは国立中央大学薄膜技術センターの教員と学生で構成され、業界のシニアマネージャーを交えて、スパッタリング技術および装置の開発による窒化ガリウム（GaN）低温エピタキシャル成長を行っており、8〜12インチのシリコン基板窒化ガリウム（GaN-on-Si）エピタキシャルウェーハの製造を目標としています。また、さまざまなビジネスモデルに基づき、お客様のニーズに合わせた装置の売買および開発にも対応しております。
上記の内容はAiによって翻訳されました。
